시험관 착상률 높이는 두 가지, 자궁 내 장치와 냉동 후 이식법
시험관시술의 착상률 높이기는 생식의학계의 오랜 과제입니다.
과배란, 난자채취, 수정까지는 대부분 성공하는데 임신의 마지막 관문인 착상에서 실패하면서 시험관시술의 성공률은 여전히 25-30%에 머물러 있으니까요.
착상률 향상을 위해 난자의 수와 질을 향상시키는 노력, 인위적으로 투명대를 얇게 만들거나 제거하는 보조부화술, 착상 전 유전자 검사, 자궁경, 자궁내막자극술 등 여러 시도를 해보고 있지만 성과가 뚜렷하지는 않습니다.
착상률 향상을 위한 노력은 계속되고 있으면 최근 생식의학 전문학술지 <Fertility and Sterility>에 발표가 확정된 두 편의 관련 논문을 소개합니다.
1. 단기간의 구리 자궁 내 장치(short-term copper intrauterine device placement)
반복 착상실패(repeated implantation failure)는 논문마다 기준이 조금씩 다른데요. 이 연구에서는 시험관시술에서 적어도 한 개 이상의 상급 수정란을 이식했지만 두 번 이상 착상에 실패한 경우로 정의하였습니다.
월경 후 배란이 되기 전 시기인 난포기에 자궁경 시술을 하여 자궁내막폴립이나 유착이 있는 경우는 제거하였고, 이후 일부는 월경 2주기 동안 구리로 된 자궁 내 장치(흔히 루프라고 부르는)를 삽입하였다가 제거 후 냉동란 이식을 하였고 일부는 아무 처치도 안 하고 냉동란 이식을 한 다음 두 그룹 사이의 이후 시험관시술 결과를 비교하였습니다.
자궁 내 장치를 안 한 그룹의 임상적 임신율(26.44%)에 비해 자궁 내 장치를 했던 그룹의 임상적 임신율(45.13%)이 현저히 높았으며, 이식 수정란 중 착상이 된 수정란의 비율을 계산한 착상률도 자궁 내 장치를 했던 그룹에서 뚜렷하게 높았습니다(16.56% vs. 29.29%).
연구자들은 자궁 내 장치가 자궁내막에 염증반응을 일으켜 면역물질인 사이토카인(cytokines)의 구성을 변동시킨 것이 착상률 향상의 이유라고 추정하고 있습니다. 임신 초기 수정란이 자궁내막을 잘 파고들어 안착하고 영양공급을 위한 혈관을 형성하기 위해서는 염증 유발 사이토카인(proinflammatory cytokines)이 중요한 역할을 담당하고, 이후 모체가 태아를 남으로 여겨 거부하지 않도록 하여 태아가 지속적으로 성장할 수 있도록 돕는 데는 염증 방지 사이토카인(antiinflammatory cytokines) 중요한 역할을 하지요.
이 연구 결과로 보면 단기간의 자궁 내 장치 삽입이 착상에 도움을 주는 새로운 방법이 될 가능성이 있습니다.
하지만 자궁 내 장치가 염증을 유발하여 오히려 자궁유착의 부작용을 일으키는 사례도 있으니 주의가 필요하고 앞으로 더 많은 연구가 필요할 것으로 생각됩니다.
2. 채취 난자를 모두 냉동하여 다음 주기 이식(freeze-all policy)
착상률을 높이기 위한 또 하나의 시도는 난자채취 후 신선란을 이식하는 것이 아니라 모두 냉동하였다가 다음 주기에 이식하는 방법입니다.
이 연구에서는 3회 이상 주기에서 4개 이상의 질이 좋은 수정란을 이식했지만 착상에 실패한 38세 이하의 난임 여성을 대상으로 미세수정 후 바로 신선란을 이식한 경우와 모두 냉동했다가 다음 주기에 이식한 경우의 임신율을 비교하였습니다.
|
냉동 후 이식 그룹(Freeze-all group) |
신선란 이식 그룹(Fresh ET group) |
착상률 |
44.2% |
15.8% |
임상적 임신율(심박동 확인) |
52% |
28% |
진행 임신율(임신 20주) |
44% |
20% |
연구자들은 과배란 유도, 난자채취 후 바로 수정란을 이식하지 않고 수정란을 냉동하였다가 다음 주기에 이식하게 되면 과배란 과정에서 나타나는 자궁내막 수용성의 저하와 자궁수축으로 인한 착상 방해의 영향을 받지 않아 임신율 향상에 도움이 될 수 있다고 설명하고 있습니다.
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